光刻机用UV光源，其通过特殊光学设计发射出接近平行光的UV平行光，使特定波段的紫外线通过掩膜掩孔对集成电路高精密线路完成蚀刻曝光显影的工作。LEDUV光源其LED的冷光源特性又规避了菲林的通胀，对其良率有很大的提升。

  视频是LEDUV平行光光源在距离1m时的发光状态，其适用距离是100-300mm，这个区间的LEDUV平行光其光均匀性最佳，角度最小、

光刻机曝光光源选择苏州云禾YUNHOE品牌，为您解决制程工艺中所遇到的问题，并改善流程提高良率。